電気通信大学では2024年現在、
計21台の測定装置を
利用することができます。
- 装置名
- ショットキー走査型電子顕微鏡
(FE-SEM)
- メーカー・型番
- 日立 SU5000
- 装置概要
-
用途：試料のミクロな表面観察、
組成観察（反射電子像） ・加速電圧: 0.5～30 kV（0.1 kVステップ） ・分解能： 二次電子像
1.2 nm（加速電圧30 kV， WD = 5.0 mm）
3.0 nm（加速電圧 1 kV， WD = 3.0 mm） 反射電子像
3.0 nm（加速電圧15 kV， WD = 5.0 mm） ・写真倍率: 10～600,000x
- 詳細(UE-022)
- 装置名
- 透過型電子顕微鏡
(TEM)
- メーカー・型番
- 日本電子 JEM-2100F
- 装置概要
- 用途：試料のミクロな投影像を観察 ・加速電圧：200 kV ・格子分解能：0.1nm、点分解能: 0.23 nm ・STEMモードの分解能：0.2 nm
- 詳細(UE-017)
- 装置名
- 共焦点蛍光顕微鏡システム
(CLSM)
- メーカー・型番
- Carl Zeiss LSM710
- 装置概要
- 用途：生体試料などの顕微鏡観察 ・励起用レーザーライン：405 nm、458 nm、488 nm、514 nm、561 nm、633 nm ・蛍光像の同時観察：最大34チャネルの異なる波長域の蛍光像を同時に取得可能
- 詳細(UE-009)
- 装置名
- 精密構造解析用X線回折装置
(XRD)
- メーカー・型番
- リガク
SmartLab/R/Kα1/RE
- 装置概要
-
用途：粉末X線回折測定、
薄膜試料の結晶構造解析 ・Cu線源 回転対陰極型X線発生装置 9 kW ・集中法/平行法切替ユニット Kα1ユニット Ge(220)モノクロ ・10試料自動交換装置搭載、汎用試料台(χΦアタッチメント)
- 詳細(UE-018)
- 装置名
- DSC粉末X線同時測定装置
(DSC-XRD)
- メーカー・型番
- リガク Ultima III
- 装置概要
-
用途：粉末X線回折測定、
示差走査熱量(DSC)とXRDの同時測定 ・Cu封入管線源 集中法/平行法切替ユニット ・DSC測定温度範囲：-40℃〜350℃
- 詳細(UE-004)
- 装置名
- HPC型単結晶X線回折装置
(SCXRD)
- メーカー・型番
- リガク
XtaLab
Synergy-R/DW/RF
- 装置概要
- 用途：単結晶試料のX線結晶構造解析 ・Cu & Moデュアルターゲット高輝度回転対陰極型X線発生装置 ・試料位置でのX線光束：約130 μm ・窒素ガス吹付型試料冷却装置
- 詳細(UE-005)
- 装置名
- Ｘ線光電子分光装置
(XPS)
- メーカー・型番
- 日本電子 JPS-9200
- 装置概要
- 用途：固体試料の元素・化学状態分析 ・標準X線源 (Al-Mgツインターゲット) ・最大負荷 Mg 500W，Al 600W ・単色化Al Kα線(Ag 3d5/2 半値幅: 0.65 eV) ・アルゴンイオンエッチング、紫外光分光分析(UPS)可能
- 詳細(UE-007)
- 装置名
- 電子線元素状態分析装置
(EPMA)
- メーカー・型番
- 日本電子 JXA-8530F
- 装置概要
- 用途：固体試料表面の元素分析 ・分析元素範囲 WDS: B～U、EDS: B～U ・二次電子分解能 3 nm (WD=11 mm、30 kV) ・分析条件最小プローブ径：40 nm (10 kV、1x1x10-8 A) ・走査倍率：x 40～ x 300,000 (WD=11 mm)
- 詳細(UE-011)
- 装置名
- 熱分析装置
(DTA-DSC)
- メーカー・型番
- リガク
DSC8230/TG8120
- 装置概要
- 用途：熱分析（TG/DTA、DSC測定） ・TG/DTA測定の温度範囲：室温～ 1,500℃ ・DSC測定の温度範囲：-130℃～ 570℃
- 詳細(UE-014)
- 装置名
- フラッシュ法熱物性測定装置
(LFA)
- メーカー・型番
- NETZSCH LFA447
- 装置概要
- 用途：熱物性測定（熱拡散率、比熱容量、熱伝導率） ・測定温度範囲：室温～ 300℃ ・熱拡散率測定範囲：0.01～ 1,000 mm2/s (試料の厚さによる) ・熱伝導率測定範囲：0.1～ 2,000 W/(m・K) (試料の厚さによる) ・熱拡散率測定精度・再現性：±5%以内 (標準試料)
- 詳細(UE-016)
- 装置名
- 顕微レーザーラマン分光計
(RAMAN)
- メーカー・型番
- 日本分光 NRS-3100
- 装置概要
- 用途：固体試料表面の元素・化学状態分析 ・空間分解能:1 μm ・532 nmレーザーと785 nmレーザーを搭載 ・レーザー出力：100 mW (532 nm) ・マッピング測定(例：50 μm x 50 μm)可能
- 詳細(UE-006)
- 装置名
- 高速応答FT-IR
(FT-IR)
- メーカー・型番
- Thermo Scientific
Nicolet 6700
- 装置概要
- 用途：赤外分光スペクトルの測定 ・測定範囲：7,800～ 350 cm-1 (利用するアクセサリおよび検出器により異なる) ・最高分解能：0.09 cm-1 ・S/N比：50,000: 1以上 ・高速スキャン回数：95スペクトル/1秒
- 詳細(UE-012)
- 装置名
- 核磁気共鳴装置
(NMR)
- メーカー・型番
- 日本電子 ECA-500
(溶液試料対応)
- 装置概要
- 用途： NMR測定（化合物の分子構造の決定） ・1H共鳴周波数：500 MHz ・多核NMR測定核種：15N～31P ・オートサンプルチェンジャ(24本)利用可能
- 詳細(UE-003)
- 装置名
- 核磁気共鳴装置
(NMR ECZL500R)
- メーカー・型番
- 日本電子 JNM-ECZL500R
(固体・溶液試料対応)
- 装置概要
- 用途： NMR測定（化合物の分子構造の決定） ・1H共鳴周波数：500 MHz ・多核NMR測定核種：15N～31P ・オートサンプルチェンジャ(24本)利用可能
- 詳細(UE-021)
- 装置名
- 電子スピン共鳴装置
(ESR)
- メーカー・型番
- Bruker ELEXSYS
- 装置概要
- 用途：フリーラジカルの同定・定量 ・分光器：約9 GHzの定常波 ・変調周波数：1 MHzまで ・温度範囲：4.2 K～ 300 K
- 詳細(UE-008)
- 装置名
- MALDI-スパイラルTOF質量分析装置
(MALDI)
- メーカー・型番
- 日本電子 JMS-S3000
SpiralTOF
- 装置概要
- 用途：質量分析（材料の分子構造解析） ・質量範囲：m/z 4～ 30,000 (Linearモード：10～ 500,000) ・質量分解能： >75,000 (FWHM) (Linearモード： >2,500(FWFM)) ・質量精度： <1 ppm (内部標準) ・感度：500 amol (AngiotensionII) ・MS/MS測定可能
- 詳細(UE-019)
- 装置名
- ESI-TOF型質量分析計
(ESI)
- メーカー・型番
- 日本電子
JMS-T100 AccuTOF
- 装置概要
- 用途：質量分析（材料の分子構造解析） ・質量範囲：m/z 6～ 10,000 ・分解能： >6,000 (FWHM) ・質量精度： <5 ppm (内部標準) ・感度：10 pg (reserpine)
- 詳細(UE-013)
- 装置名
- 超伝導量子干渉型磁束計
(SQUID MPMS3)
- メーカー・型番
- Quantum Design
MPMS3
- 装置概要
- 用途：磁化測定（磁化率の磁場依存性、温度依存性の測定） ・測定温度範囲：1.8 K～ 400 K ・印加磁場：0～ 7 T ・3He冷凍機オプション(0.42 K～ 1.8 K)
- 詳細(UE-020)
- 装置名
- 超伝導量子干渉型磁束計
(SQUID MPMS-XL7)
- メーカー・型番
- Quantum Design
MPMS-XL7
- 装置概要
- 用途：磁化測定（磁化率の磁場依存性、温度依存性の測定） ・測定温度範囲：1.8 K～ 400 K ・印加磁場：0～7 T ・光照射サンプルホルダーオプション ・オーブンオプション (温度上限800 K)
- 詳細(UE-001)
- 装置名
- 高磁場多目的物性測定システム
(PPMS)
- メーカー・型番
- Quantum Design
PPMS
- 装置概要
- 用途：比熱測定、磁化測定、電気抵抗測定、その他 ・温度範囲：1.9 K～ 400 K ・印加磁場：0～ 9 T ・磁場均一性：0.1 x 10-4(9 T over 5.5 cm)
- 詳細(UE-002)
- 装置名
- 円二色性分散計
(CD)
- メーカー・型番
- 日本分光 J-720W
- 装置概要
- 用途：CD測定による分子の絶対構造解析、タンパク質・DNAの二次構造解析 ・測定波長範囲：170 nm～ 800 nm ・スキャンスピード：1 nm/min～ 5,000 nm/min ・ペルチェ型試料温度可変アタッチメント
- 詳細(UE-015)
