EQUIPMENT LIST

装置一覧

電気通信大学では2024年現在、
21台の測定装置を
利用することができます。

装置名
ショットキー走査型電子顕微鏡
(FE-SEM)
メーカー・型番
日立 SU5000
装置概要
用途:試料のミクロな表面観察、
   組成観察(反射電子像) ・加速電圧: 0.5~30 kV(0.1 kVステップ) ・分解能:  二次電子像
 1.2 nm(加速電圧30 kV, WD = 5.0 mm)
 3.0 nm(加速電圧 1 kV, WD = 3.0 mm)
 反射電子像
 3.0 nm(加速電圧15 kV, WD = 5.0 mm)
・写真倍率: 10~600,000x
 
詳細(UE-022)
装置名
透過型電子顕微鏡
(TEM)
メーカー・型番
日本電子 JEM-2100F
装置概要
用途:試料のミクロな投影像を観察 ・加速電圧:200 kV ・格子分解能:0.1nm、点分解能: 0.23 nm ・STEMモードの分解能:0.2 nm
 
詳細(UE-017)
装置名
共焦点蛍光顕微鏡システム
メーカー・型番
Carl Zweiss LSM710
装置概要
用途:生体試料などの顕微鏡観察 ・励起用レーザーライン:405 nm、458 nm、488 nm、514 nm、561 nm、633 nm ・蛍光像の同時観察:最大34チャネルの異なる波長域の蛍光像を同時に取得可能
 
詳細(UE-009)
装置名
精密構造解析用X線回折装置
(XRD)
メーカー・型番
リガク
SmartLab/R/Kα1/RE
装置概要
用途:粉末X線回折測定、
   薄膜試料の結晶構造解析 ・Cu線源 回転対陰極型X線発生装置 9 kW ・集中法/平行法切替ユニット Kα1ユニット Ge(220)モノクロ ・10試料自動交換装置搭載、汎用試料台(χΦアタッチメント)
 
詳細(UE-018)
装置名
DSC粉末X線同時測定装置
(DSC-XRD)
メーカー・型番
リガク Ultima III
装置概要
用途:粉末X線回折測定、
   示差走査熱量(DSC)とXRDの同時測定 ・Cu封入管線源 集中法/平行法切替ユニット ・DSC測定温度範囲:-40℃〜350℃
 
詳細(UE-004)
装置名
HPC型単結晶X線回折装置
(SCXRD)
メーカー・型番
リガク
XtaLab
Synergy-R/DW/RF
装置概要
用途:単結晶試料のX線結晶構造解析 ・Cu & Moデュアルターゲット高輝度回転対陰極型X線発生装置 ・試料位置でのX線光束:約130 μm ・窒素ガス吹付型試料冷却装置
 
詳細(UE-005)
装置名
X線光電子分光装置
(XPS)
メーカー・型番
日本電子 JPS-9200
装置概要
用途:固体試料の元素・化学状態分析 ・標準X線源 (Al-Mgツインターゲット) ・最大負荷 Mg 500W,Al 600W ・単色化Al Kα線(Ag 3d5/2 半値幅: 0.65 eV) ・アルゴンイオンエッチング、紫外光分光分析(UPS)可能
 
詳細(UE-007)
装置名
電子線元素状態分析装置
(EPMA)
メーカー・型番
日本電子 JXA-8530F
装置概要
用途:固体試料表面の元素分析 ・分析元素範囲 WDS: B~U、EDS: B~U ・二次電子分解能 3 nm (WD=11 mm、30 kV) ・分析条件最小プローブ径:40 nm (10 kV、1x1x10-8 A) ・走査倍率:x 40~ x 300,000 (WD=11 mm)
 
詳細(UE-011)
装置名
熱分析装置
(DTA-DSC)
メーカー・型番
リガク
DSC8230/TG8120
装置概要
用途:熱分析(TG/DTA、DSC測定) ・TG/DTA測定の温度範囲:室温~ 1,500℃ ・DSC測定の温度範囲:-130℃~ 570℃
 
詳細(UE-014)
装置名
フラッシュ法熱物性測定装置
(LFA)
メーカー・型番
Bruker AXS
NETZSCH LFA447
装置概要
用途:熱物性測定(熱拡散率、比熱容量、熱伝導率) ・測定温度範囲:室温~ 300℃ ・熱拡散率測定範囲:0.01~ 1,000 mm2/s (試料の厚さによる) ・熱伝導率測定範囲:0.1~ 2,000 W/(m・K) (試料の厚さによる) ・熱拡散率測定精度・再現性:±5%以内 (標準試料)
 
詳細(UE-016)
装置名
顕微レーザーラマン分光計
(RAMAN)
メーカー・型番
日本分光 NRS-3100
装置概要
用途:固体試料表面の元素・化学状態分析 ・空間分解能:1 μm ・532 nmレーザーと85 nmレーザーを搭載 ・レーザー出力:100 mW (532 nm) ・マッピング測定(例:50 μm x 50 μm)可能
 
詳細(UE-006)
装置名
高速応答FT-IR
メーカー・型番
Thermo Scientific
Nicolet 6700
装置概要
用途:赤外分光スペクトルの測定 ・測定範囲:7,800~ 350 cm-1 (利用するアクセサリおよび検出器により異なる) ・最高分解能:0.09 cm-1 ・S/N比:50,000: 1以上 ・高速スキャン回数:95スペクトル/1秒
 
詳細(UE-012)
装置名
核磁気共鳴装置
(NMR)
メーカー・型番
日本電子 ECA-500
(溶液試料対応)
装置概要
用途: NMR測定(化合物の分子構造の決定) 1H共鳴周波数:500 MHz ・多核NMR測定核種:15N~31P ・オートサンプルチェンジャ(24本)利用可能
 
詳細(UE-003)
装置名
核磁気共鳴装置
(NMR)
メーカー・型番
日本電子 JNM-ECZL500R
(固体・溶液試料対応)
装置概要
用途: NMR測定(化合物の分子構造の決定) 1H共鳴周波数:500 MHz ・多核NMR測定核種:15N~31P ・オートサンプルチェンジャ(24本)利用可能
 
詳細(UE-021)
装置名
電子スピン共鳴装置
(ESR)
メーカー・型番
Bruker ELEXSYS
装置概要
用途:フリーラジカルの同定・定量 ・分光器:約9 GHzの定常波 ・変調周波数:1 MHzまで ・温度範囲:4.2 K~ 300 K
 
詳細(UE-008)
装置名
MALDI-スパイラルTOF質量分析装置
メーカー・型番
日本電子 JMS-S3000
SpiralTOF
装置概要
用途:質量分析(材料の分子構造解析) ・質量範囲:m/z 4~ 30,000 (Linearモード:10~ 500,000) ・質量分解能: >75,000 (FWHM) (Linearモード: >2,500(FWFM)) ・質量精度: <1 ppm (内部標準) ・感度:500 amol (AngiotensionII) ・MS/MS測定可能
 
詳細(UE-019)
装置名
ESI-TOF型質量分析計
メーカー・型番
日本電子
JMS-T100 AccuTOF
装置概要
用途:質量分析(材料の分子構造解析) ・質量範囲:m/z 6~ 10,000 ・分解能: >6,000 (FWHM) ・質量精度: <5 ppm (内部標準) ・感度:10 pg (reserpine)
 
詳細(UE-013)
装置名
超伝導量子干渉型磁束計
(SQUID MPMS3)
メーカー・型番
Quantum Design
MPMS3
装置概要
用途:磁化測定(磁化率の磁場依存性、温度依存性の測定) ・測定温度範囲:1.8 K~ 400 K ・印加磁場:0~ 7 T 3He冷凍機オプション(0.42 K~ 1.8 K)
 
詳細(UE-020)
装置名
超伝導量子干渉型磁束計
(SQUID MPMS-XL7)
メーカー・型番
Quantum Design
MPMS-XL7
装置概要
用途:磁化測定(磁化率の磁場依存性、温度依存性の測定) ・測定温度範囲:1.8 K~ 400 K ・印加磁場:0~7 T ・光照射サンプルホルダーオプション ・オーブンオプション (温度上限800 K)
 
詳細(UE-001)
装置名
高磁場多目的物性測定システム
(PPMS)
メーカー・型番
Quantum Design
PPMS
装置概要
用途:比熱測定、磁化測定、電気抵抗測定、その他 ・温度範囲:1.9 K~ 300 K ・印加磁場:0~ 9 T ・磁場均一性:0.1 x 10-4(9 T over 5.5 cm)
 
詳細(UE-002)
装置名
円二色性分散計
(CD)
メーカー・型番
日本分光 J-720W
装置概要
用途:CD測定による分子の絶対構造解析、タンパク質・DNAの二次構造解析 ・測定波長範囲:170 nm~ 800 nm ・スキャンスピード:1 nm/min~ 5,000 nm/min ・ペルチェ型試料温度可変アタッチメント
 
詳細(UE-015)
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